雙面拋光機(jī)設(shè)備應(yīng)用范圍雙面拋光機(jī)設(shè)備主要適用于硅片、石英晶片、光學(xué)晶體、玻璃、寶石、鈮酸鋰、砷化鎵、陶瓷片等薄脆金屬或非金屬的研磨或拋光。雙面拋光機(jī)主要特點(diǎn)1、平面研磨機(jī)采用四動(dòng)拋光原理;二電機(jī)分別拖動(dòng)上下拋盤、太陽(yáng)輪、內(nèi)齒圈;雙面拋光機(jī)的PLC調(diào)整設(shè)定控制;彩色NT顯示的人機(jī)界面系統(tǒng);2、雙面拋光機(jī)的龍門箱形結(jié)構(gòu),配置大功率減速系統(tǒng),軟啟動(dòng)、軟停止,運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),拋光時(shí)間根據(jù)計(jì)時(shí)器可隨意設(shè)定,雙面拋光機(jī)采用了自動(dòng)供給拋光液裝置;3、拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進(jìn)行了特殊處理;4、雙面拋光機(jī)通過精密