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雙面拋光機(jī)設(shè)備主要技術(shù)性能时间：2020-01-30 作者：palmerandpenn.com【原创】 阅读 雙面拋光機(jī)設(shè)備應(yīng)用范圍 雙面拋光機(jī)設(shè)備主要適用于硅片、石英晶片、光學(xué)晶體、玻璃、寶石、鈮酸鋰、砷化鎵、陶瓷片等薄脆金屬或非金屬的研磨或拋光。
雙面拋光機(jī)主要特點(diǎn) 1、平面研磨機(jī)采用四動(dòng)拋光原理；二電機(jī)分別拖動(dòng)上下拋盤、太陽(yáng)輪、內(nèi)齒圈；雙面拋光機(jī)的PLC調(diào)整設(shè)定控制；彩色NT顯示的人機(jī)界面系統(tǒng)； 2、雙面拋光機(jī)的龍門箱形結(jié)構(gòu)，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動(dòng)、軟停止，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，拋光時(shí)間根據(jù)計(jì)時(shí)器可隨意設(shè)定，雙面拋光機(jī)采用了自動(dòng)供給拋光液裝置；
3、拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進(jìn)行了特殊處理； 4、雙面拋光機(jī)通過(guò)精密稱重傳感器與高精密的氣動(dòng)控制系統(tǒng)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)了壓力閉環(huán)反饋控制，確保了工件壓力的準(zhǔn)確性； 5、雙面拋光機(jī)主要采用了強(qiáng)制集中潤(rùn)滑； 6、雙面拋光機(jī)的拋光液系統(tǒng)具有獨(dú)立攪拌、循環(huán)水冷卻、拋光液加熱以及拋光液溫度檢測(cè)功能，各功能可選配制做。 雙面拋光機(jī)技術(shù)參數(shù) 1、拋光拖動(dòng)電機(jī)：5.5KW 380V 1440rpm； 2、太陽(yáng)輪拖動(dòng)電機(jī)：2.2KW 380V 1440rpm； 3、上拋盤規(guī)格：φ630mm×φ240mm×30mm； 4、下拋盤規(guī)格：φ630mm×φ240mm×30mm； 5、游輪參數(shù)：公制Z=114 M=2； 6、游輪數(shù)量：5片；
7、最小拋光厚度：0.4mm/φ75mm； 8、最大拋光厚度：100mm； 9、下拋盤轉(zhuǎn)速范圍：0—50rpm； 10、需配備空氣源壓力：0.5—0.6Mpa； 11、下拋盤的端面跳動(dòng)量：≤0.04mm； 12、下拋盤的平面度：0.015 mm； 13、雙面拋光機(jī)設(shè)備外形尺寸：（長(zhǎng)×寬×高）1400mm×1200mm×2400mm； 14、 雙面拋光機(jī)重量： 約2800kg； 15、 雙面拋光機(jī)承片量：?jiǎn)伪P：4片/φ75 mm、3片/φ100 mm 5盤：20片/φ75 mm、15片/φ100 mm。 |
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