拋光雙面研磨機(jī)工作原理

拋光雙面研磨機(jī)為精密磨削設(shè)備，上、下研磨盤(pán)作相反方向轉(zhuǎn)動(dòng)，工作在載體內(nèi)作既公轉(zhuǎn)又自轉(zhuǎn)的游星運(yùn)動(dòng)，磨削阻力小不損壞工件，而且兩面均勻磨削生產(chǎn)效率高。

拋光雙面研磨機(jī)特點(diǎn)

(拋光雙面研磨機(jī)產(chǎn)品的圖片和參數(shù)僅供參考，詳情請(qǐng)來(lái)電：15249717772)

1、拋光雙面研磨機(jī)，可以采用修盤(pán)方式修整研磨盤(pán)。

2、拋光雙面研磨機(jī)采用交流變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng)，軟啟動(dòng)、軟停止，平穩(wěn)可靠。

3、拋光研磨設(shè)備通過(guò)使用電子預(yù)置計(jì)數(shù)器，研磨的圈數(shù)、要求可準(zhǔn)確控制。

4、上盤(pán)單獨(dú)設(shè)置了緩降氣缸，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且還可獨(dú)立進(jìn)行壓力控制。

5、油壓升降齒圈、非常平穩(wěn)，太陽(yáng)輪下有墊片可調(diào)整位置，有效利用了齒圈和太陽(yáng)輪。

雙面拋光機(jī)突出結(jié)構(gòu)優(yōu)勢(shì)

1、雙面拋光機(jī)設(shè)備采用四段壓力，即輕壓、中壓、重壓、修研的運(yùn)行過(guò)程；  

2、拋光雙面研磨機(jī)可根據(jù)用戶(hù)要求增加光柵厚度控制系統(tǒng)，加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制在±0.001mm范圍內(nèi)。

3、拋光雙面研磨機(jī)設(shè)備采用PLC程控系統(tǒng)，變頻調(diào)速，觸摸屏操作面板，電機(jī)轉(zhuǎn)速與運(yùn)行時(shí)間可直接在觸摸屏上輸入。

4、拋光雙面研磨機(jī)設(shè)備為下研磨盤(pán)升降方式、下研磨盤(pán)的高低位置可在總行程范圍內(nèi)隨意停留自鎖，以滿(mǎn)足改變游輪嚙合高低位置的需要；

5、雙面拋光研磨設(shè)備運(yùn)行采用四臺(tái)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，可以給上研磨盤(pán)、下研磨盤(pán)、齒圈、太陽(yáng)輪單獨(dú)進(jìn)行調(diào)速，使研磨達(dá)到最理想的轉(zhuǎn)速比，其太陽(yáng)輪相對(duì)與其它三個(gè)轉(zhuǎn)速的速比可作無(wú)級(jí)調(diào)速,使游輪可實(shí)現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)，滿(mǎn)足了不同研磨及修盤(pán)工藝的需求。

拋光雙面研磨機(jī)適用范圍

拋光雙面研磨機(jī)廣泛用于藍(lán)寶石鐘表玻璃；

手機(jī)玻璃；

玻璃基片；

光學(xué)玻璃晶片；

LED藍(lán)寶石襯底；

石英晶片；

硅片研磨機(jī)；

諸片；

陶瓷基板；

活塞環(huán)；

閥片；

鋁鐵硼；

鉬片；

鐵氧體；

鈮酸鋰；

鉭酸鋰；

PTC熱敏電阻；

光盤(pán)基片；

陶瓷密封環(huán)；

硬質(zhì)合金密封環(huán)；

鎢鋼片；

等各種材料的雙面研磨、拋光雙面研磨機(jī)。