拋光雙面機設備應用范圍領域及特點
作者：
kas韜
【
原创
】
2020-10-27
拋光雙面機設備應用范圍領域及特點
拋光雙面機可對各類半導體材料、半導體硅片、晶體材料、陶瓷、磁性材料、硬質(zhì)合金、不銹鋼、藍寶石、光學玻璃、金屬材料及其它硬脆材料等實現(xiàn)穩(wěn)定的高精度雙面拋光加工。
只要您有要求，我們就能拋光出合格的產(chǎn)品，一定能滿足您的要求。
拋光雙面機主要特點
1、拋光雙面機采用四動拋光原理；二電機分別拖動上下拋盤、太陽輪、內(nèi)齒圈；PLC調(diào)整設定控制；彩色NT顯示的人機界面系統(tǒng)。
2、 平面拋光機是龍門箱形結(jié)構(gòu)，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動、軟停止，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，拋光時間根據(jù)計時器可隨意設定，采用了自動供給拋光液裝置。
3、 與拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進行了特殊處理。
4、 通過精密稱重傳感器與高精密的氣動控制系統(tǒng)聯(lián)合實現(xiàn)了壓力閉環(huán)反饋控制，確保了工件壓力的準確性。
5、 拋光雙面機主要運動副采用了強制集中潤滑。
6、 雙面拋光機的拋光液系統(tǒng)具有獨立攪拌、循環(huán)水冷卻、拋光液加熱以及拋光液溫度檢測功能，各功能可選配制做。
以上為拋光雙面機設備應用范圍領域及特點，如需了解更多相關技術(shù)要求，請于本站業(yè)務經(jīng)理聯(lián)系。
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